项目生产的光掩膜版分为二元铬膜光掩膜版（传统型）和相位移型光掩膜版两大类。其中，二元铬膜光掩膜版（传统型）属于低阶产品，工艺过程仅需一次曝光、显影、蚀刻，无需光阻涂布。冠石科技光掩膜版制造项目（一期Ⅰ）因光阻涂布机及其配套的位置精度测量仪、相位测量仪、烘烤机等设备尚未安装，故项目第一阶段只能实现年产5040片6英寸光掩膜版的生产能力。